Annealing in oxidizing and reducing

Annealing in oxidizing and reducing atmospheres results in different color and conductivity changes of the material as discussed in the next section. However, both show an increase in /3 at the expense of a. This indicates that the surface-rich f3 component does not arise from any particular oxidation state, but rather from anneal-induced relaxation. This view is supported by the fact that thin film specimens, deposited from liquid or vapor phase and cooled slowly (and therefore allowed to partially relax, show a higher fraction of (3 component than mechanically polished ones [Fig. l(c)].

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在氧化和还原气氛中退火会导致材料的不同颜色和电导率变化，如下一节所述。然而，两者都显示了 /3 的增加，但代价是 a。这表明富含表面的 f3 成分不是由任何特定的氧化态产生的，而是由退火引起的弛豫产生的。这一观点得到以下事实的支持，即从液相或气相沉积并缓慢冷却（因此允许部分松弛）的薄膜样品显示出比机械抛光样品更高的 (3) 组分 [图 1(c)]。

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氧化和还原气氛中的退火会导致材料颜色和导电性的不同变化，下一节将对此进行讨论。然而，两者都显示出以a为代价的/3增加。这表明富含表面的f3组分并非来自任何特定的氧化状态，而是来自退火诱导的弛豫。这一观点得到了以下事实的支持：从液相或气相沉积并缓慢冷却（因此允许部分松弛）的薄膜样品显示（3种成分）的比例高于机械抛光的样品[图l（c）]。

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在氧化和还原气氛中退火会导致材料不同的颜色和导电性变化，这将在下一节中讨论。然而，两者都显示出以a为代价的/3的增加。这表明富含表面的f3成分不是来自任何特定的氧化态，而是来自退火诱导的弛豫。这一观点得到了以下事实的支持，即从液相或气相沉积并缓慢冷却(因此允许部分松弛)的薄膜样品显示出比机械抛光样品更高的(3种成分)比例[图1(c)]。

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