as the deposition occurred mainly u

因为沉积主要发生在传质控制下。将具有可变组成的Cu-Rh样品沉积在ITO电极上，并照原样或从基板上分离后进行XRD分析。例如，图2b中的插图显示了具有75 Rh at。％的沉积物的衍射图。观察到所有反射都在单个金属Cu [14]和Rh [15]中间的2θ值之间，它们都在面心立方系统中结晶。尽管已证明这种结果与存在富于任何一种金属的纳米级畴兼容，但通常认为这种结果是单相固溶体形成的证据[16]。在形成单相固溶体的假设下，针对每个沉积物计算间距值，对于4个最强烈的反射，使用布拉格定律，因此计算了单元参数。图2b显示了晶胞参数对合金平均成分的依赖性。Cu含量为40％至55％的样品的细胞参数介于极限相Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2之间[9,10]，并且可能是亚稳态的。观察到与Vegard定律的显着正偏差，大于快速淬火熔体的报告偏差[10]。铜含量小于30％（原子）或65％（原子）以上的样品所测得的晶胞参数值分别接近极限Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2相的典型值。因此，不能排除那些样品主要由具有有限组成的相组成，并含有少量（可能是无定形的）其他物质。使用布拉格定律，因此计算了单元参数。图2b显示了晶胞参数对合金平均成分的依赖性。Cu含量为40％至55％的样品的细胞参数介于极限相Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2之间[9,10]，并且可能是亚稳态的。观察到与Vegard定律的显着正偏差，大于快速淬火熔体的报告偏差[10]。铜含量小于30％（原子）或65％（原子）以上的样品所测得的晶胞参数值分别接近极限Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2相的典型值。因此，不能排除那些样品主要由具有有限组成的相组成，并含有少量（可能是无定形的）其他物质。使用布拉格定律，因此计算了单元参数。图2b显示了晶胞参数对合金平均成分的依赖性。Cu含量为40％至55％的样品的细胞参数介于极限相Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2之间[9,10]，并且可能是亚稳态的。观察到与Vegard定律的显着正偏差，大于快速淬火熔体的报告偏差[10]。铜含量小于30％（原子）或65％（原子）以上的样品所测得的晶胞参数值分别接近极限Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2相的典型值。因此，不能排除那些样品主要由具有有限组成的相组成，并含有少量（可能是无定形的）其他物质。图2b显示了晶胞参数对合金平均成分的依赖性。Cu含量为40％至55％的样品的细胞参数介于极限相Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2之间[9,10]，并且可能是亚稳态的。观察到与Vegard定律的显着正偏差，大于快速淬火熔体的报告偏差[10]。铜含量小于30％（原子）或65％（原子）以上的样品所测得的晶胞参数值分别接近极限Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2相的典型值。因此，不能排除那些样品主要由具有有限组成的相组成，并含有少量（可能是无定形的）其他物质。图2b显示了晶胞参数对合金平均成分的依赖性。Cu含量为40％至55％的样品的细胞参数介于极限相Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2之间[9,10]，并且可能是亚稳态的。观察到与Vegard定律的显着正偏差，大于快速淬火熔体的报告偏差[10]。铜含量小于30％（原子）或65％（原子）以上的样品所测得的晶胞参数值分别接近极限Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2相的典型值。因此，不能排除那些样品主要由具有有限组成的相组成，并含有少量（可能是无定形的）其他物质。％的细胞参数介于极限相Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2之间[9,10]，并且可能是亚稳态的。观察到与Vegard定律的显着正偏差，大于快速淬火熔体的报告偏差[10]。铜含量小于30％（原子）或65％（原子）以上的样品所测得的晶胞参数值分别接近极限Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2相的典型值。因此，不能排除那些样品主要由具有有限组成的相组成，并含有少量（可能是无定形的）其他物质。％的细胞参数介于极限相Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2之间[9,10]，并且可能是亚稳态的。观察到与Vegard定律的显着正偏差，大于快速淬火熔体的报告偏差[10]。铜含量小于30％（原子）或65％（原子）以上的样品所测得的晶胞参数值分别接近极限Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2相的典型值。因此，不能排除那些样品主要由具有有限组成的相组成，并含有少量（可能是无定形的）其他物质。大于报道的快速淬火熔体[10]。铜含量小于30％（原子）或65％（原子）以上的样品所测得的晶胞参数值分别接近极限Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2相的典型值。因此，不能排除那些样品主要由具有有限组成的相组成，并含有少量（可能是无定形的）其他物质。大于报道的快速淬火熔体[10]。铜含量小于30％（原子）或65％（原子）以上的样品所测得的晶胞参数值分别接近极限Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2相的典型值。因此，不能排除那些样品主要由具有有限组成的相组成，并含有少量（可能是无定形的）其他物质。

由于沉积主要在大规模转移控制下发生。具有可变成分的Cu_Rh样品沉积在ITO电极上，并提交给XRD分析，例如，或从基材分离后。图2b中的内部显示，例如，存款的衍射图与75 Rh在.%。所有重新拐点均观察到单个金属（Cu [14] 和 Rh [15） 之间的 2°值中间值，这些值在以表面为中心的立方系统中均结晶。这种结果通常被认为是单相固体溶液形成的证据，尽管结果表明它与在两种金属[16]中富集的纳米级域的存在是相容的。在形成单相固解的假说下，使用布拉格定律计算了4个最强烈的反射的间距值，并计算了细胞参数。图2b显示了细胞参数对合金平均成分的依赖性。40 至 55 Cu 的样本在.%的%中具有在限制阶段 Cu0.1Rh0.9 和 Cu0.8Rh0.2 [9，10] 之间的细胞参数中间，并且可能是元稳的。观察到与Vegard定律显著正偏差，大于报告的快速淬火熔体[10]。为低于30Cu的样品测量的电池参数值在.%或超过65Cu的.%分别接近那些典型的限制Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2相。因此，不能排除这些样品主要由具有有限成分的相位组成，少量（可能是非定形的）附加材料。

因为沉积主要是在传质控制下发生的。将不同成分的铜-铑样品沉积在ITO电极上，然后进行XRD分析，或者将其从基底上分离出来。图2b中的插图作为一个例子，显示了75 Rh的沉积物在.%时的衍射图。在Cu[14]和Rh[15]这两种单一金属的2θ值中间观察到所有的再反射，它们都在面心立方系中结晶。这一结果通常被视为单相固溶体形成的证据，尽管它被证明与富集在任一金属中的纳米级畴的存在是相容的[16]。在形成单相固溶体的假设下，利用Bragg定律计算了4种最强烈反射的每个沉积层的间距值，从而计算了单元参数。图2b示出了电池参数对合金平均成分的依赖性。铜含量为40-55%的样品的细胞参数介于限制相Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2之间[9,10]，可能是亚稳态的。观察到与Vegard定律的显著正偏差，大于快速淬火熔体的报告[10]。对于小于30 Cu at%或大于65 Cu at%的样品，测得的电池参数值分别接近于典型的极限Cu0.1Rh0.9和Cu0.8Rh0.2相。因此，不能排除这些样品主要由具有限制成分的相组成，以及少量（可能是非晶态）附加材料。<br>