Respiratory protectionSuitable resp

Respiratory protectionSuitable respiratory protection apparatus: Filtering Half-face mask (DIN EN 149)Half-face mask or quarter face piece: maximum use concentration for substances with exposure limits: P1 filter: up to a max. of 4 times the exposure limit.P2 filter: up to a max. of 10 times the exposure limit. P3 filter: up to a max. of 30 times the exposure limit.Observe the wear time limits according GefStoffV in combination with the rules for using respiratory protection apparatus (BGR 190).The filter class must be suitable for the maximum contaminant concentration (gas/vapour/aerosol/particulates) that may arise when handling the product.If the concentration is exceeded, self-contained breathing apparatus must be used!

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呼吸系统防护 合适的呼吸系统防护设备：过滤半面罩（DIN EN 149） 半面罩或四分之一面罩：暴露极限物质的最大使用浓度：P1过滤器：最高。是暴露极限的4倍。 P2滤镜：最大暴露极限的10倍。P3滤镜：最大暴露极限的30倍。 遵守GefStoffV的磨损时间限制，并结合呼吸防护设备的使用规则（BGR 190）。 过滤器等级必须适合处理产品时可能出现的最大污染物浓度（气体/蒸汽/气溶胶/微粒）。 如果超过浓度，则必须使用自给式呼吸器！

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呼吸保护 合适的呼吸保护装置：过滤半面罩（DIN EN 149） 半面面罩或四分之一面膜：具有暴露限制的物质的最大使用浓度：P1过滤器：最多4倍的暴露限制。 P2 滤镜：最大曝光限制的10倍。P3 滤镜：最大曝光限制的30倍。 根据 GefStoffV 结合使用呼吸保护装置的规则（BGR 190）遵守磨损时间限制。 过滤器类别必须适用于处理产品时可能出现的最大污染物浓度（气体/蒸汽/气溶胶/颗粒）。 如果浓度超过，必须使用自包含的呼吸器！

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