The width of the adjustable polishi

The width of the adjustable polishing head gap was changed from 2 mm to 10 mm in 2 mm steps, the applied polishing potential difference U from 260 V to 320 V in 20 V steps and the velocity of the polishing head from 0.3 mm s−1, 1 mm s−1 and 5 mm s−1. A 30 mm wide area in the tube was plasma polished. The polishing head went through the tube 10 times with a polishing head gap of 1 mm. The current I was measured by the machine control over a current-to-applied potential difference converter.

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可调抛光头间隙的宽度以2 mm的步长从2 mm变为10 mm，施加的抛光电势差U以20 V的步长从260 V变为320 V，抛光头的速度从0.3 mm s-1 ，1 mm s-1和5 mm s-1。等离子抛光管中30毫米宽的区域。抛光头以1 mm的抛光头间隙穿过管子10次。电流I是通过机器控制在施加电流的电位差转换器上测量的。

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可调节抛光头间隙的宽度在 2 mm 步长内从 2 mm 更改为 10 mm，在 20 V 步中将应用抛光电位差 U 从 260 V 更改为 320 V，抛光头的速度从 0.3 mm s=1、1 mm s=1 和 5 mm s=1。管内30毫米宽的面积是等离子抛光的。抛光头经过管 10 次，抛光头间隙为 1 mm。电流 I 由机器对应用电位差转换器的控制进行测量。

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可调抛光头间隙的宽度从2 mm变为10 mm，步进为20 V，施加的抛光电位差U从260 V变为320 V，抛光头的速度从0.3 mm s−1、1 mm s−1和5 mm s−1。管内30毫米宽的区域被等离子抛光。抛光头穿过管子10次，抛光头间隙为1 mm。电流I是通过机器控制电流到外加电位差转换器来测量的。<br>

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