Figure 4 (b) represents the effect of the sintering temperature on den的简体中文翻译

Figure 4 (b) represents the effect

Figure 4 (b) represents the effect of the sintering temperature on densification, relative permittivity (ɛr), quality factor (Qf) and FWHM of the selected A1g mode (high intensity as compared to other A1g modes in the spectrum). The sintering experiments revealed that the densification increased to a maximum when sintered at 650 oC and after that showed a slight decrease, this being in line with the microstructural studies. Also, the relative permittivity and Qf of bulk MoO3 ceramics increased from 5.6 to 6.6 and from 24,000 to 41,000 GHz at 11.3 GHz, respectively, when the sintering temperature was increased from 550 oC to 650 oC. At the higher temperature of 700 oC, the densification, relative permittivity and Qf of the sample degraded. The porosity corrected relative permittivity of this ceramic was found to be 8 using equation 2 with a theoretical model for high porosity samples by the modified Bruggeman method [28].
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图4(b)表示了烧结温度对所选A1g模式的致密化,相对介电常数(ɛr),品质因数(Qf)和FWHM的影响(与光谱中的其他A1g模式相比强度较高)。烧结实验表明,在650 oC烧结时,致密化增加到最大,此后略有下降,这与微观结构研究一致。同样,当烧结温度从550 oC升高到650 oC时,块状MoO3陶瓷的相对介电常数和Qf在11.3 GHz时分别从5.6增加到6.6和从24,000 GHz增加到41,000 GHz。在700 oC的较高温度下,样品的致密化,相对介电常数和Qf降低。
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图 4 (b) 表示烧结温度对所选 A1g 模式的致密性、相对允许率 (r)、质量因子 (Qf) 和 FWHM 的影响(与频谱中的其他 A1g 模式相比,强度较高)。烧结实验表明,在650 oC下烧结时,致密程度增加到最大值,之后略有下降,这与微观结构研究一致。此外,散装MoO3陶瓷的相对允许率和Qf从5.6上升到6.6,从24,000千兆赫增加到41,000千兆赫,当烧结温度从550 oC增加到650 oC时。在700 oC的较高温度下,样品的致密性、相对允许性和Qf降解。经改进的布鲁格曼方法[28],发现该陶瓷的孔隙度校正相对允许性为8,采用方程2与高孔隙度样品的理论模型。
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图4(b)表示烧结温度对所选A1g模式的致密化、相对介电常数(ɛr)、质量因子(Qf)和半高宽的影响(与光谱中的其他A1g模式相比强度高)。烧结实验表明,在650℃烧结时,致密化程度达到最大值,之后略有下降,这与显微组织研究相符。当烧结温度从550℃提高到650℃时,大块MoO3陶瓷的相对介电常数和Qf分别从5.6提高到6.6和11.3ghz时从24000提高到41000ghz。在700℃高温下,样品的致密化程度、相对介电常数和Qf值降低。使用公式2和修正的Bruggeman方法对高孔隙率样品的理论模型,发现该陶瓷的孔隙率校正相对介电常数为8[28]。<br>
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