The presence of Al vacancies leads to a small increase in the Si–O dis的简体中文翻译

The presence of Al vacancies leads

The presence of Al vacancies leads to a small increase in the Si–O distances due to a weakening of the bond, due to softening of the interaction due the presence of the capping silanol groups (of the hydroxyl nest defect). Note that the cell volume of NZ, despite having similar distances is much lower than that of HZ due to the presence of extra-framework cations which have strong interactions with the oxygen atoms of the framework.Suggesting that in dealuminated zeolites the major portion of water molecules is only weakly coordinated to the zeolite structure: whilst when there are more hydroxyl nests, coordination of water molecules to these defects is restricted as they can form intra-nest hydrogen bonds. The fact that all the dealuminated species have essentially dehydrated below 150℃ is also associated with the lack of extra-framework cations, which have the effect of strongly binding the water molecules within the pores. We therefore conclude that the increase in water is due to the availability of sites associated with silanol nests that can form strong hydrogen fond interactions to water. In the case of HZD5, the partially amorphization is likely to be the cause of the decrease in the number of water molecules present.[21]Photoinduced reactions of surface species also take place and are remarkably different on the two types of nanotubes.
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的Al空位导致在Si-O的距离的小的增加,由于键的削弱,由于因覆盖的硅烷醇基团(的羟基巢缺陷)的存在下相互作用的软化的存在。需要注意的是NZ的,细胞体积尽管具有相似的距离比HZ的低得多由于其具有与所述框架的氧原子的强相互作用骨架外阳离子的存在。<br>这表明在脱铝沸石的水分子的主要部分仅弱配位到沸石结构:而当有多个羟基的巢,水分子这些缺陷被限制的协调,它们能形成帧内巢氢键。所有的脱铝品种有低于150基本上是脱水的事实℃也与缺乏额外的骨架阳离子,具有强烈约束力的毛孔内的水分子的作用有关。因此,我们得出结论,在水中的增加是由于对硅烷醇基巢,可以形成较强的氢键相互作用喜欢水相关网站的可用性。在HZD5的情况下,部分非晶化是可能在存在的水分子的数量的减少的原因。[21]<br>表面物质的光致反应也发生并且是在两种类型的纳米管的显着不同。
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由于粘结减弱,由于存在覆盖的硅藻类组(羟基巢缺陷),相互作用减弱,Al 空位的存在导致 Si+O 距离略有增加。请注意,新西兰的细胞体积,尽管有类似的距离比HZ低得多,因为存在与框架氧原子有很强的相互作用的外框架阳离子。<br>建议在加工沸石中,水分子的主要部分只与沸石结构协调弱:当水基巢较多时,水分子对这些缺陷的协调受到限制,因为它们可以形成巢内氢键。所有受处理的物种基本上都脱水到150°C以下,也与缺乏框架外阳离子有关,这些阳离子具有在孔内对水分子进行强结合的效果。因此,我们得出结论,水的增加是由于与硅醇巢穴相关的地点的可用性,这些站点可以形成与水的强烈氢的相互作用。在 HZD5 的情况下,部分非定化可能是存在水分子数量减少的原因。[21]<br>表面物种的光导反应也发生,在两种类型的纳米管上也明显不同。
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铝空位的存在导致Si-O距离的小幅度增加,这是由于键的弱化,是由于封端硅烷醇基团(羟基巢缺陷)的存在导致相互作用的软化。值得注意的是,NZ的细胞体积,尽管有相似的距离远低于HZ,因为存在额外的骨架阳离子,它们与骨架的氧原子有很强的相互作用。<br>这表明,在脱铝沸石中,水分子的主要部分仅与沸石结构弱配位:当羟基巢较多时,水分子与这些缺陷的配位受到限制,因为它们可以形成巢内氢键。所有脱铝物种在150℃以下基本脱水的事实也与缺乏额外的骨架阳离子有关,这些阳离子具有在孔隙内强结合水分子的作用。因此,我们得出结论,水的增加是由于与硅醇巢相关的位点的可用性,这些位点可以与水形成强烈的亲氢相互作用。对于HZD5,部分非晶化可能是水分子数量减少的原因<br>表面物种的光诱导反应也发生了,并且在两种类型的纳米管上有显著的不同。<br>
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