Any mura or non-uniformity visible in any pattern under any lighting c的简体中文翻译

Any mura or non-uniformity visible

Any mura or non-uniformity visible in any pattern under any lighting condition must be approved by Apple Engineering with a signed and duplicated limit sample. Vertical and Horizontal mura (e.g. ELA mura) should be inspected with G63 test pattern at maximum full Defect Explanation screen brightness(650 nits) and compared with an Apple approved limit sample.
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所有村或不均匀在任何光线条件下的任何图案可见,必须通过苹果工程用符号和复制限制样品的批准。垂直和水平云纹(例如ELA云纹)应当在最大全缺陷说明屏幕亮度(650尼特)G63测试图案进行检查和使用Apple限批样品相比。
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在任何照明条件下,任何以任何模式可见的 mura 或非均匀性都必须经过 Apple 工程公司的批准,并带有签名和重复的限制样本。垂直和水平 mura(例如 ELA mura)应以 G63 测试模式检查,最大全缺陷解释屏幕亮度(650 尼特),并与 Apple 批准的限值样品进行比较。
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在任何照明条件下,任何模式下可见的任何mura或不均匀性必须得到苹果工程部的批准,并附上一份签名和复印的极限样品。垂直和水平的穆拉(例如ELA Mura)应该用G63测试模式在最大缺陷解释屏幕亮度(650 nITS)下进行检查,并与苹果批准的极限样品进行比较。<BR>
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