3) May include naturally occurring

3) May include naturally occurring contaminants or residual levels of halogen elements (e.g. from processing aides, ingredients, synthesis, etc.) that are not included in the material formulation. The defined concentration limits should be low enough to precludethe use of one or more halogen elements in the material formulation and high enough to account for naturally occurring contaminants or residual levels of halogen elements (e.g. from processing aides, ingredients, synthesis, etc.).

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3）可能包括材料配方 中未包括的天然污染物或残留水平的卤素元素（例如，来自加工助剂，成分，合成等） 。定义的浓度限值应足够低，以防止 在材料配方中使用一种或多种卤素元素，并且应足够高， 以解决自然产生的污染物或卤素元素的残留水平 （例如来自加工助剂，成分，合成等）的问题。。

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3）可能包括自然产生的污染物或卤素元素的残留水平 （例如，从加工助手、成分、合成等），不包括在 材料配方。定义的浓度限制应足够低，以排除 在材料配方中使用一种或多种卤素元素，且足够高 考虑自然产生的污染物或卤素元素的残留水平 （例如，从加工助手、成分、合成等）。

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3）可能包括自然产生的污染物或卤素元素的残留水平 （例如，来自加工助剂、成分、合成物等）不包括在 材料配方。规定的浓度限值应足够低，以排除 在材料配方中使用一种或多种卤素元素，且含量足够高 说明自然产生的污染物或卤素元素的残留量 （例如加工助剂、成分、合成物等）。

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