Typically, the deposition was condu

Typically, the deposition was conducted at -0.4 V in 0.5 M Cu(OAc)2 aqueous solution using a standard three-electrode system, which was composed of WO 3 -001 and WO 3 nanosheet working electrodes, a platinum counter electrode, and a Ag/AgCl reference electrode.

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通常，使用标准的三电极系统在0.5 M Cu（OAc）2水溶液中于-0.4 V下进行沉积，该系统由WO 3 -001和WO 3纳米片工作电极，铂对电极和Ag / AgCl参比电极。

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通常，沉积在0.5 M Cu（OAc）2水溶液中，使用标准三电极系统进行-0.4 V，该系统由WO 3-001和WO 3纳米片工作电极、铂计数器电极和Ag/AgCl参考电极组成。

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通常，在-0.4v下，在0.5m Cu（OAc）2水溶液中使用标准三电极系统进行沉积，该系统由WO 3-001和wo3纳米片工作电极、铂对电极和Ag/AgCl参比电极组成。

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