For hydrothermal sintering, intensi

For hydrothermal sintering, intensities of bands attributed to C-C,C-O and CH3 symmetric stretching progressively decrease with the sintering time,up to extremely low values for the sample HS80. For the cold sintering process, only a very low intensity band attributed to CH3 symmetric stretching is clearly visible.The intensity further decreases with the sintering time until quasifull disappearance for the sample CSP80.

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对于水热烧结，带的强度归因于CC，CO和CH 3对称伸缩逐渐与烧结时间减少，到极低值的样品HS80。用于冷烧结过程中，只有非常低的强度带归因于CH 3对称伸缩显然visible.The强度与烧结时间，直到用于样品CSP80 quasifull消失进一步降低。

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对于热液烧结，C-C、C-O 和 CH3 对称拉伸的频段强度随着烧结时间逐渐减小，样品 HS80 的数值极低。对于冷烧结过程，只有 CH3 对称拉伸的极低强度带清晰可见。强度随着烧结时间的进一步减小，直到样品CSP80的准完全消失。

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对于水热烧结，由C-C、C-O和CH3对称拉伸引起的谱带强度随烧结时间的延长而逐渐减小，样品HS80的谱带强度值极低。在冷烧结过程中，由于CH3的对称拉伸，只有很低的强度带清晰可见，随着烧结时间的延长，强度进一步降低，直至CSP80样品的准完全消失。

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