Technical RequirementsNo burrs and

Technical RequirementsNo burrs and sharp cornersNifrocarburized in Plasma and OxidizedThickness of compound layer:13-23Thickness of oxide layer:1-3Effective case depth NHT:0.38-0.55Threshold hardness (actual core hardness +50HV)Core hardness：310-360HV10Hardness in depth of 0.1:610HV1 min

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技术要求 无毛刺和尖角 在血浆和氧化Nifrocarburized 化合物层的厚度：13-23 厚度的氧化物层的：1-3 有效硬化层深度NHT：0.38-0.55 阈值硬度（实际核心硬度+ 50HV） 核心硬度：310- 360HV10 硬度在0.1深度：610HV1分钟

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技术要求 无毛刺和尖角 血浆和氧化中的尼夫罗碳化 复合层厚度：13-23 氧化物层厚度：1-3 有效案例深度 NHT：0.38-0.55 阈值硬度（实际核心硬度 +50HV） 芯硬度：310-360HV10 硬度深度为 0.1：610HV1 分钟

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技术要求 无毛刺和尖角 等离子渗氮氧化 复合层厚度：13-23 氧化层厚度：1-3 有效层深度NHT:0.38-0.55 阈值硬度（实际芯部硬度+50HV） 芯部硬度：310-360HV10 0.1:610HV1 min深度硬度

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