In the simultaneous presence of boron dopants and nitrogen defects, th的简体中文翻译

In the simultaneous presence of bor

In the simultaneous
presence of boron dopants and nitrogen defects, the BH400
sample exhibits further enhanced photocatalytic activity. The
average oxygen evolution rate of BH400 is 1.4-, 1.7- and 1.9-fold
higher than that of CN–H, CH–B, and pristine g-C3N4, respec￾tively (Figure S7, Supporting Information). This comparitive
results imply that boron dopants and nitrogen defects have the
synergetic effects on the greatly improved oxygen production
activity of g-C3N4. The gradual decrease in the oxygen evolu￾tion rate as the reaction prolonging (Figure 5e) is mainly due
to the light-shielding effect reducing optical absorption, with
the photoreduction of Ag+ on the surface of the catalyst.[32] This
is an inevitable phenomenon in photocatalytic water oxidation
as always observed in previous reports.[32–35] Then, to avoid the
optical shield effects of the photoreduced Ag particles, KIO3 was
used as electron scavenger to evaluate the photocatalytic sta￾bility of B
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在同时<br>硼掺杂剂和氮缺陷的存在下,BH400 <br>样品显示出进一步增强的光催化活性。的<br>BH400的平均氧速率是1.4倍,1.7-和1.9倍<br>比CN-H,CH-B,和原始G-C3N4的更高,respec ??? tively(图S7,支持信息)。此比较性<br>结果意味着,硼的掺杂剂和氮缺陷具有<br>在极大地提高氧气生产的协同效应<br>的G-C3N4的活性。中的氧evolu ???灰率作为反应延长(图5e)的逐渐减少的主要原因是<br>在光屏蔽效果减少光吸收,与<br>银离子的催化剂的表面上的光致还原。[32] 这个<br>是在光催化水氧化的不可避免的现象<br>如在以往的报告中总是观察到。[32-35]然后,以避免<br>该光还原Ag粒子的光屏蔽效应,KIO3被<br>用作电子清除剂来评价光催化STA ???的相容性乙
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在同时<br>存在硼掺杂剂和氮气缺陷,BH400<br>样品显示的光催化活性进一步增强。的<br>BH400 的平均氧进化速率为 1.4、1.7 和 1.9 倍<br>高于 CN+H、CH+B 和原始 g-C3N4 的规格(图 S7,支持信息)。此比较<br>结果表明,硼掺杂剂和氮气缺陷具有<br>协同效应对氧产量的极大提高<br>g-C3N4活性。随着反应的延长,氧气吸收率的逐渐降低(图5e)主要是由于<br>以光屏蔽效果减少光学吸收,<br>Ag+ 在催化剂表面的光还原。[32] 这<br>是光催化水氧化的必然现象<br>如前几次报告中一样。[32–35]然后,为了避免<br>光屏蔽效应的光缩小Ag粒子,KIO3是<br>用作电子清除器,用于评估 B 的光催化信度
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同时<br>硼掺杂和氮缺陷的存在,BH400<br>样品的光催化活性进一步增强。这个<br>BH400的平均析氧速率为1.4-、1.7-和1.9倍<br>分别高于cn-h、ch-b和原始g-c3n4(图s7,支持信息)。这个比较<br>结果表明,硼掺杂和氮缺陷具有<br>协同效应对大幅度提高氧气产量的作用<br>g-c3n4的活性。随着反应时间的延长,析氧速率逐渐降低(图5e)主要是由于<br>降低光吸收的光屏蔽效应<br>ag+在催化剂表面的光还原。<br>光催化水氧化反应中不可避免的现象<br>如以往报告中所述。[32–35]然后,为了避免<br>光还原银粒子kio3的光屏蔽效应<br>用作电子清除剂评价b的光催化稳定性<br>
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