结合磁流变抛光过程中的实验数据，为了研究划擦深度对划痕形成的影响，选择

结合磁流变抛光过程中的实验数据，为了研究划擦深度对划痕形成的影响，选择1.5、2.0、2.5nm三种划擦深度进行仿真。

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Combined with the experimental data in the process of magnetorheological polishing, in order to study the effect of scratch depth on the formation of scratches, three scratch depths of 1.5, 2.0 and 2.5 nm were selected for simulation.

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Combined with the experimental data in the process of magnetic rheumating polishing, in order to study the effect of scratch depth on scratch formation, the three scratch depths of 1.5, 2.0 and 2.5nm were selected for simulation.

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In order to study the influence of scratch depth on scratch formation, three kinds of scratch depth of 1.5, 2.0 and 2.5nm were selected for simulation.<br>

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