A cold sintering approach is demons

A cold sintering approach is demonstrated to fabricate highly dense electrochemically active MoS2/Graphite (MG) composites with 88% relative density at an extremely low processing temperature of 140 °C. The process provides a pathway to sinter covalently bonded materials effectively to produce either dense or near dense pellets and/or thick films.

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冷烧结方法是证明以制造高密度的电化学活性的MoS 2 /石墨（MG）与88％的相对密度的复合材料在140℃的非常低的加工温度。该方法提供了一个途径来烧结共价键合的材料有效地产生任一密集或接近致密粒料和/或厚的薄膜。

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在140°C的极低处理温度下，采用冷烧结方法，在140°C的极低处理温度下，制造具有88%相对密度的高致密电活性MoS2/Graphite （MG）复合材料。该工艺为有效粘结材料提供一条途径，以产生密集或接近致密颗粒和/或厚膜。

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采用冷烧结方法，在140℃的极低加工温度下制备了相对密度为88%的高密度电化学活性MoS2/石墨（MG）复合材料。该方法为有效烧结共价键合材料以制备致密或接近致密的颗粒和/或厚膜提供了途径。

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