스퍼터링법은 아르곤 플라즈마의 발생 방법에 따라 고주파(RF) 플라즈마를 이용하는 RF 스퍼터링법과 직류(DC)플라즈마的简体中文翻译

스퍼터링법은 아르곤 플라즈마의 발생 방법에 따라 고주파(RF)

스퍼터링법은 아르곤 플라즈마의 발생 방법에 따라 고주파(RF) 플라즈마를 이용하는 RF 스퍼터링법과 직류(DC)플라즈마를 이용하는 DC 스퍼터링법이 있다. 이 중 DC 스퍼터링법은 성막 속도가 빠르고, 조작이 간편하여 산업용으로 주로 이용되고 있다.
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根据产生氩等离子体的方法，溅射方法可分为使用高频（RF）等离子体的RF溅射和使用直流（DC）等离子体的DC溅射。其中，DC溅射法由于其成膜速度高且易于操作而主要用于工业目的。
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溅射法有一种DC溅射法，使用高频（RF）等离子体，具体取决于等离子体的发生方法。±RF溅射法和直流（直流）等离子体。其中，直流溅射法主要用于工业，因为薄膜速度快，操作简单。
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Spring法根据氩等离子体的发生方法，有利用高频（RF）等离子体的《x》61500；《x》61494；《x》61502；《x》61472；RF推杆法和直流（DC）等离子体的DC推杆法。其中DC推杆法的性膜速度快，操作简便，主要用于产业。<br>
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