In Figure 8 it can clearly be seen

In Figure 8 it can clearly be seen that depending on the adjustable polishing head gap and the potential difference the average area roughness Sa lies within the range of 0.049–0.180 µm. Furthermore the average area roughness decreases with increasing potential difference. It indicates that the process is more stable with increasing voltage. Additionally, it can be seen that with increasing potential difference the width of the adjustable polishing head gap has no significant influence on the average surface roughness. Sa achieves a range between 0.065 µm and 0.090 µm.

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在图8中可以清楚地看到，取决于可调节的抛光头间隙和电位差，平均面积粗糙度Sa处于0.049-0.180 µm的范围内。此外，平均面积粗糙度随着电势差的增加而减小。这表明随着电压的升高，该过程更加稳定。另外，可以看出，随着电势差的增加，可调节抛光头间隙的宽度对平均表面粗糙度没有显着影响。Sa达到0.065μm至0.090μm的范围。

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在图 8 中可以清楚地看到，根据可调抛光头隙和电位差异，平均区域粗糙度 Sa 位于 0.049±0.180 μm 的范围内。此外，平均面积粗糙度随电位差的增加而降低。表明随着电压的增加，工艺更加稳定。此外，也可以看到，随着电位差的增加，可调抛光头隙的宽度对平均表面粗糙度没有显著影响。Sa 的射程介于 0.065 μm 和 0.090 μm 之间。

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在图8中可以清楚地看到，根据可调抛光头间隙和电位差，平均面积粗糙度Sa在0.049–0.180µm的范围内。此外，平均面积粗糙度随电位差的增大而减小。结果表明，随着电压的升高，过程更加稳定。另外，可以看出，随着电位差的增大，可调抛光头间隙的宽度对平均表面粗糙度没有显著影响。Sa的范围在0.065µm和0.090µm之间。<br>

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