传统光催化技术主要是基于TiO2研究。由于TiO2禁带宽度较大，只能吸

Традиционная технология фотокатализа в основном основана на исследованиях TiO2. Из-за большой ширины запрещенной зоны TiO2 он может поглощать и использовать только ультрафиолетовый свет, а ультрафиолетовая энергия составляет только менее 5% всей солнечной энергии. Поэтому, изучая модификацию TiO2, он также начал искать некоторые другие новые полупроводниковые фотокаталитические материалы. Среди них слоистый материал кристаллической структуры с более высокой каталитической активностью и большей удельной площадью поверхности стал горячей точкой исследований в области фотокатализа полупроводников в последние годы [5].

Традиционная фотокаталитическая технология в основном основана на исследованиях TiO2. Поскольку ширина полосы tiO2 велика, она может поглощать и использовать только ультрафиолетовый свет, а энергия ультрафиолетового света составляет менее 5% от общей энергии солнечного света. Поэтому при изучении модификации tiO2 также ищутся другие новые полупроводниковые фотокаталитические материалы. Среди них кристаллическая структура материала с более высокой каталитической активностью и большим слоем площади поверхности стала исследовательской точкой полупроводникового фотокаталитического домена в последние годы.

Traditional photocatalytic technology is mainly based on TiO2. Due to the wide band gap of TiO2, only UV light can be absorbed and utilized, and the UV energy only accounts for less than 5% of the total solar energy. Therefore, in the study of TiO2 modification, we began to look for other new semiconductor photocatalytic materials. In recent years, the materials with high catalytic activity and large specific surface area layered crystal structure have become the research hotspot of semiconductor photocatalytic domain [5].<br>