Systematic investigation of indium

Systematic investigation of indium tin oxide (ITO) anode surface treatment of OLEDs was performed to get the optimum condition for the ITO anode. The ITO surface was treated by Ar or O_2 plasma with different RF power, chamber pressure and exposure time. Atomic force microscopy was used in measuring the surface morphology and roughness analyses. Sheet resistance of ITO anodes reduces to less than 7 Ω/ □ and surface roughness of ITO anode decreases more than 20%. Hence, the electric characteristics of OLED were improved. The operating voltage of OLED devices with Ar or O_2 plasma treated anodes decreased from 7.5 to 6.5V and 6.0V, respectively. We also show the presence of less dark spots in the OLEDs with plasma-treated ITO anode. As a result, the stability and lifetime of OLEDs can be improved obviously.

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进行OLED的铟锡氧化物（ITO）阳极表面处理的系统的调查获得的ITO阳极的最佳条件。在ITO表面是由Ar或O_2等离子体具有不同RF功率，腔室压力和暴露时间处理。原子力显微镜测量表面形貌和粗糙度分析中使用。ITO阳极的薄层电阻降低到小于7Ω/□和ITO阳极的表面粗糙度降低20％以上。因此，OLED的电特性得到改善。用Ar或O_2等离子体处理的阳极的OLED器件的操作电压分别从7.5降低到6.5V和6.0V。我们还表明少暗点的与等离子体处理过的ITO阳极中的OLED的存在。其结果是，OLED的稳定性和寿命可以明显改善。

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对OLED的氧化锡（ITO）阳极表面处理进行了系统调查，为ITO阳极提供了最佳条件。ITO 表面由具有不同射频功率、腔室压力和曝光时间的 Ar 或O_2等离子体处理。原子力显微镜用于测量表面形态和粗糙度分析。ITO阳极的板材电阻降低至小于7 Ω/ Ω，ITO阳极的表面粗糙度降低20%以上。因此，OLED的电特性得到了提高。具有Ar或O_2等离子体处理阳极的OLED器件的工作电压分别从7.5降至6.5V和6.0V。我们还显示了使用等离子处理 ITO 阳极的 OLED 中存在较少的暗点。因此，OLED的稳定性和寿命可以明显改善。

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对氧化铟锡（ITO）阳极表面处理进行了系统的研究，得到了ITO阳极的最佳条件。采用不同射频功率、气压和曝光时间的Ar或O 2等离子体对ITO表面进行处理。采用原子力显微镜对表面形貌和粗糙度进行了测量分析。ITO阳极片电阻降至7Ω/□以下，表面粗糙度降低20%以上。从而改善了OLED的电特性。经Ar和O 2等离子体处理的OLED器件的工作电压分别从7.5伏降至6.5伏和6.0伏。我们还发现等离子体处理ITO阳极的oled中存在较少的暗斑。结果表明，有机电致发光器件的稳定性和寿命都有明显提高。

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