常用铜镓靶的形状有平面类、旋转类；规格，纯度均可定制。下图是铜镓（75

常用铜镓靶的形状有平面类、旋转类；规格，纯度均可定制。下图是铜镓（75/25,wt%）合金溅射靶材的成分分析表：

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Commonly used copper gallium targets have flat and rotating shapes; specifications and purity can be customized. The following figure is the composition analysis table of the copper gallium (75/25, wt%) alloy sputtering target:

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The shapes of commonly used copper gallium targets include plane type and rotation type; Specification and purity can be customized. The following figure is the composition analysis table of copper gallium (75 / 25, wt%) alloy sputtering target:

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Commonly used shapes of Cu-Ga targets are plane and rotation. Specifications and purity can be customized. The following figure is the composition analysis table of Cu-Ga (75/25,wt%) alloy sputtering target:

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