Plasma Ashing with OxygenPlasma ash

Plasma Ashing with OxygenPlasma ashing is the process of removing carbon from productsduring the manufacturing process. Plasma ashing is alwaysperformed with oxygen plasma in a high frequency plasma system.Generally, the goal of plasma ashing is to completely remove organicmatter, including volatile carbon oxides and water vapor. All removedcontaminants are pumped out of the chamber by the vacuumsystem.Oxygen plasma removes all traces of organic matter and leaves noresidues

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等 离子灰化与氧气等离子灰化是 在制造过程中从产品中去除碳的过程。 在高频等离子体系统中，总是使用氧等离子体进行等离子体灰化。 通常，等离子体灰化的目的是完全去除有机物 ，包括挥发性碳氧化物和水蒸气。 真空 系统将所有去除的污染物泵出腔室。 氧气等离子体去除了所有微量有机物，并且没有 残留物

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带氧气的等离子喷 等离子脱碳是去除产品中碳的过程 在制造过程中。等离子电片始终 在高频等离子体系统中与氧等离子体一起执行。 一般来说，等离子喷除的目标是完全去除有机 物质，包括挥发性碳氧化物和水蒸气。全部删除 污染物通过真空泵出腔室 系统。 氧等离子体去除有机物的所有痕迹，不留下任何痕迹 残留

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等离子体氧灰化 等离子体灰化是从产品中除去碳的过程 在制造过程中。等离子体灰化总是 在高频等离子体系统中用氧等离子体进行。 一般来说，等离子体灰化的目的是完全去除有机物 物质，包括挥发性碳氧化物和水蒸气。全部删除 污染物被真空泵出腔室 系统。 氧等离子体去除了所有有机物的痕迹 残留物

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