采用金属铜辅助化学刻蚀方法，通过对比分析研究了铜盐种类对n型单晶硅片刻

采用金属铜辅助化学刻蚀方法，通过对比分析研究了铜盐种类对n型单晶硅片刻蚀形貌以及反射率的影响，

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Using the copper-assisted chemical etching method, the influence of the types of copper salts on the etching morphology and reflectivity of n-type monocrystalline silicon wafers was studied through comparative analysis.

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Using metal copper auxiliary chemical etching method, the effect of copper salt species on n-type monocrystalline silicon instant etching and reflectivity was studied by comparative analysis.

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The effects of copper salts on the etching morphology and reflectivity of n-type single crystal silicon wafers were studied by copper assisted chemical etching,<BR>

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