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HA-MA was dispersed in PBS and kept
HA-MA was dispersed in PBS and kept at 4 °C until complete dissolution. HA-MA solution was mixed with a 1% w/v lithium phenyl-2,4,6-trimethylbenzoylphosphinate (LAP) stock solution to create a 2% w/v HA-MA and 0.05% w/v LAP solution and crosslinked by controlled photoexposure in the UV-A range (Omnicure Series 100, 400 nm wavelength, 9.55 mW cm−2).
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HA-MA 分散在 PBS 中并保持在 4°C 直至完全溶解。HA-MA 溶液与 1% w/v 苯基-2,4,6-三甲基苯甲酰基次膦酸锂 (LAP) 储备溶液混合以产生 2% w/v HA-MA 和 0.05% w/v LAP 溶液并通过UV-A 范围内的受控曝光（Omnicure 系列 100，400 nm 波长，9.55 mW cm-2）。
正在翻译中..
HA-MA分散在PBS中，并保持在4°C直到完全溶解。将HA-MA溶液与1%w/v苯基-2,4,6-三甲基苯甲酰膦酸锂（LAP）储备溶液混合，形成2%w/v HA-MA和0.05%w/v LAP溶液，并在UV-a范围内通过受控光曝光进行交联（Omnicure系列100400nm波长，9.55mW cm−2).<br>
正在翻译中..
将透明质酸-甲基丙烯酸分散在PBS中，并保持在4℃直到完全溶解。将透明质酸-甲基丙烯酸溶液与1%重量/体积的苯基-2，4，6-三甲基苯甲酰基次膦酸锂(LAP)储备溶液混合，以产生2%重量/体积的透明质酸-甲基丙烯酸和0.05%重量/体积的LAP溶液，并通过在紫外-可见范围(Omnicure Series 100，400纳米波长，9.55毫瓦·厘米-2)内的受控光暴露进行交联。
正在翻译中..
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