铜靶材是高纯铜材料经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状。我们可生

铜靶材是高纯铜材料经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状。我们可生产纯度从3N到6N的高纯铜靶, 氧含量最低可1ppm, 由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性，已广泛应用于电子、通信、超导、航天等尖端领域。

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The copper target is a series of processed products of high-purity copper material, with a specific size and shape. We can produce high-purity copper targets with purity from 3N to 6N, with the lowest oxygen content

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Copper target is a series of processed products of high-purity copper material, with specific size and shape. We can produce high purity copper targets from 3N to 6N with the lowest oxygen content

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Copper target is the product of high purity copper material after a series of processing, with specific size and shape. We can produce high purity copper targets with purity from 3N to 6N, and the oxygen content is the lowest.

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