In all films, a compressive stress state is observed. From 0.77 to 0.9的繁体中文翻译

In all films, a compressive stress

In all films, a compressive stress state is observed. From 0.77 to 0.97 N/Mo ratios, the compressive residual stress decreases of about 85 MPa. With a small increase in nitrogen content in the film (N/Mo = 1.05) the stress state remains constant which appears to be related to the increase of the crystalline size and to the progressive appearance of ζ-MoN. At N/Mo ratio of 1.1 a value of −290 MPa is observed (a sudden increase of about 100 MPa). The high compressive stresses is generated by a high density of the grain boundaries and defects as reported by Detor and the presence of hexagonal MoN. Sarioglu et al. have reported that residual stresses in the hexagonal MoN films was greater than the residual stresses in cubic Mo2N. Following the XRD investigations, it corresponds to the smallest crystallite size and to the coexistence of δ-MoN and ζ-MoN phases.
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在所有薄膜中,均觀察到壓應力狀態。從0.77到0.97 N / Mo比,壓縮殘餘應力降低約85 MPa。隨著膜中氮含量的少量增加(N / Mo = 1.05),應力狀態保持恆定,這似乎與晶體尺寸的增加以及ζ-MoN的逐步出現有關。在N / Mo比為1.1時,觀察到值為-290 MPa(突然增加約100 MPa)。高壓縮應力是由Detor報告的高晶界密度和缺陷以及六角形MoN的存在產生的。Sarioglu等。據報導,六角形MoN薄膜中的殘餘應力大於立方Mo2N中的殘餘應力。在XRD調查之後,
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在所有電影中,都觀察到壓縮應力狀態。從0.77到0.97 N/Mo比率,壓縮殘餘應力減少約85MPa。當薄膜中的氮含量(N/Mo = 1.05)少量增加時,應力狀態保持不變,這似乎與晶體尺寸的增加和ζ-MoN的逐漸出現有關。在 N/Mo 比率為 1.1 時,觀察到 ±290 MPa 的值(突然增加約 100 MPa)。高壓縮應力是由 Detor 報告的顆粒邊界和缺陷的高密度和缺陷產生的,並且六邊形 MoN. Sarioglu 等人報告說,六邊形 MoN 薄膜中的殘餘應力大於立方 Mo2N 中的殘餘應力。在XRD調查之後,它對應於最小的晶體大小和+-MoN和ζ-MoN相共存。
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在所有薄膜中,都觀察到壓應力狀態。當N/Mo比為0.77~0.97n時,殘餘壓應力降低約85mpa。隨著薄膜中氮含量的小幅新增(N/Mo=1.05),應力狀態保持不變,這似乎與晶粒尺寸的新增和ζ-MoN的逐漸出現有關。當N/Mo比為1.1時,觀察到−290 MPa的值(突然新增約100 MPa)。高的壓應力是由Detor報告的晶界和缺陷的高密度以及六角MoN的存在而產生的。Sarioglu等人。報導了六角MoN薄膜的殘餘應力大於立方Mo2N薄膜中的殘餘應力,經XRD研究,其對應於最小的晶粒尺寸和δ-MoN和ζ-MoN相共存。
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