Surface morphologies of UHMCFs were

Surface morphologies of UHMCFs were characterized by A QuantaFEG250 model scanning electron microscopy (SEM). An accelerationvoltage of 5 kV was utilized and the amplification was 10,000 times in ascanning mode. A Dimension 3100 V model atomic force microscopy(AFM) was employed to investigate surface topography and surfaceroughness operating in the tapping mode. Height and deflection imageswere collected in a 3 μm×3 μm area with the height of 500 nm.

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由A广达UHMCFs的表面形貌进行了表征 FEG250模型的扫描电子显微镜（SEM）。加速度 5kV的电压被利用和放大在一个10000次 扫描模式。一个维度3100 V模型的原子力显微镜 （AFM）来探讨的表面形貌和表面 在轻敲模式操作粗糙度。高度和偏转的图像 是在具有500nm的高度的3微米×3微米的区域中收集。

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UhMCF的表面形态以A广达为特征 FEG250 模型扫描电子显微镜（SEM）。加速度 利用5千伏电压，放大10，000倍于 扫描模式。A 尺寸 3100 V 模型原子力显微镜 （AFM）用于调查表面地形和表面 粗糙度在攻丝模式下操作。高度和偏转图像 被收集在3μm×3μm区域，高度为500nm。

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用量子方法表征了超高分子量纤维的表面形貌 FEG250型扫描电镜（SEM）。加速度 电压为5kV，放大倍数为10000次 扫描模式。3100v型原子力显微镜 （AFM）被用来研究地表地形和地表 在攻丝模式下工作的粗糙度。高度和偏转图像 收集于3μm×3μm高度为500nm的区域。

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