材料の欠陥はさまざまな方法で制御および構築でき、触媒が欠陥を生成するように材料合成のプロセスを制御したり、完全な材料を処理して欠陥を再導入し的简体中文翻译

材料の欠陥はさまざまな方法で制御および構築でき、触媒が欠陥を生成するよ

材料の欠陥はさまざまな方法で制御および構築でき、触媒が欠陥を生成するように材料合成のプロセスを制御したり、完全な材料を処理して欠陥を再導入したりできます。 以下では、特に酸化物触媒の欠陥構築のために、化学的手段によって欠陥を構築する方法に焦点を当てます。 一般に、酸化物材料は金属を介して酸素と結合を形成し、安定した化合物を形成します。 酸化物を還元手段で処理すると、遷移金属酸化物は、金属原子が容易に低原子価状態に還元されると同時に、格子酸素原子が失われて酸素空孔が生じ、最終的に欠陥が構築されます。
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可以通过多种方式控制和建立材料中的缺陷:可以控制材料的合成过程,以使催化剂产生缺陷,或者可以加工整个材料以重新引入缺陷。以下内容集中于如何通过化学方法建立缺陷,特别是如何在氧化物催化剂中形成缺陷。通常,氧化物材料通过金属与氧形成键,从而形成稳定的化合物。当用还原剂处理该氧化物时,过渡金属氧化物容易将金属原子还原为低价态,同时,晶格中的氧原子损失而产生氧空位,最终形成缺陷。将完成。
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材料缺陷可以通过多种方式进行控制和构建,以控制材料合成过程,使催化剂产生缺陷,或者处理完整材料以重新引入缺陷。 下文将重点介绍如何通过化学手段构建缺陷,特别是氧化物催化剂的缺陷构造。 一般来说,氧化物材料通过金属与氧气结合,形成稳定的化合物。 当用还原手段处理氧化物时,过渡金属氧化物使金属原子容易还原为低价值状态,而晶格氧原子的丢失会导致氧孔,最终形成缺陷。
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材料的缺陷可以通过各种各样的方法进行控制和构筑,可以控制催化剂生成缺陷的材料合成过程,处理完全的材料再导入缺陷。以下,特别是为了构筑氧化物触媒的缺陷,将重点放在通过化学手段构建缺陷的方法上。一般来说,氧化物材料通过金属与氧结合形成稳定的化合物。用还原手段处理氧化物的话,过渡金属氧化物,金属原子容易还原为低原子价状态的同时,晶格氧原子丢失产生氧空位,最终构建缺陷。<br>
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