3.4 Mechanical properties3.4.1 Determination of residual stressResidua的繁体中文翻译

3.4 Mechanical properties3.4.1 Dete

3.4 Mechanical properties3.4.1 Determination of residual stressResidual stress consists of thermal stress originating by the difference in the substrate and the coating thermal expansion coefficients, and the intrinsic stress caused by ion bombardment, lattice mismatch and chemical reactions of the layer. The residual stress in the thin films was calculated using the Stoney equation:
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3.4機械性能<br>3.4.1殘餘應力的確定<br>殘餘應力包括由基底和塗層熱膨脹係數之差引起的熱應力,以及由離子轟擊,晶格失配和層的化學反應引起的固有應力。使用Stoney公式計算薄膜中的殘餘應力:
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3.4 機械性能。<br>3.4.1 殘餘應力的確定。<br>殘餘應力包括由基板和塗層熱膨脹係數的差異引起的熱應力,以及由離子轟擊、晶格不匹配和層化學反應引起的內在應力。使用 Stoney 方程計算薄膜中的殘餘應力:
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3.4機械效能<br>3.4.1殘餘應力的測定<br>殘餘應力包括由基體和塗層熱膨脹係數的差异引起的熱應力,以及由離子轟擊、晶格失配和化學反應引起的內應力。薄膜中的殘餘應力使用Stoney方程計算:<br>
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