This system is for treat waste gas

This system is for treat waste gas especially PFC gases which are toxic corrosive and inflammable came from semiconductor device manufacturing processes such as Etching, CVD, Diffusion, Ion-Implant, and MOCVD etc.This system consists of Top-Down structure which can be makes long path of flames and enables minimize Electric power consumption with high treatment efficiency.The other advantages are small foot print and apply anti-corrosion treatment for major parts.

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该系统用于处理蚀刻， CVD，扩散，离子注入和MOCVD等半导体器件制造工艺产生的有毒腐蚀性和可燃性的废气，尤其是PFC气体。 该系统由Top-Down结构组成，可以制造火焰路径长，并能以高处理效率将电力消耗降至最低。 其他优点是占地面积小，对主要部件进行防腐处理。

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该系统用于治疗废气，特别是有毒腐蚀性和易燃性来自半导体器件制造工艺（如蚀刻、 CVD、扩散、离子植入和MOCVD等 该系统由自上而下结构组成，可使火焰路径很长，以高处理效率最大限度地降低电力消耗。 其他优点是小脚印，主要部件采用防腐处理。

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该系统用于处理半导体器件制造过程中产生的有毒、腐蚀性和易燃性废气，特别是PFC气体， CVD、扩散、离子注入、MOCVD等。 该系统采用自上而下的结构，可使火焰的传播路径变长，并使电能消耗最小，处理效率高。 另一个优点是脚印小，对主要部件进行防腐处理。

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