Bulk micromachining is a process for making three-dimensional microstr的简体中文翻译

Bulk micromachining is a process fo

Bulk micromachining is a process for making three-dimensional microstruc-tures in which a masked silicon wafer is etched in an orientation-dependent etching solution [3]. Using micromachining technology, several wafers can be fabricated simultaneously and lot-to-lot consistency is maintained by control-ling a minimal number of parameters. Key parameters in bulk micromachining include crystallographic orientation, etchant, etchant concentration, semicon-ductor starting material, temperature, and time. Photolithography techniques common in IC technology precisely define patterns for etching both sides of silicon wafers. The crystallographic orientation, etchant, and semiconductor starting material are chosen by design, leaving etchant concentration, tempera-ture, and time as lot-to-lot control items.
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体微机械加工是一种制造三维微结构的工艺,其中,在与方向有关的蚀刻溶液中对掩膜的硅片进行蚀刻[3]。使用微加工技术,可以同时制造几个晶圆,并通过控制最少数量的参数来保持批次间的一致性。本体微机械加工的关键参数包括晶体学取向,蚀刻剂,蚀刻剂浓度,半导体原料,温度和时间。IC技术中常见的光刻技术可精确定义用于刻蚀硅晶圆两面的图案。晶体取向,蚀刻剂和半导体起始材料是通过设计选择的,蚀刻剂浓度,温度和时间是批次间的控制项目。
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散装微加工是一种制造三维微链胶的过程,其中蒙片硅晶片蚀刻在与方向相关的蚀刻溶液[3]中。使用微加工技术,可以同时制造多个晶圆,并通过控制输入最少的参数来保持批次到批次的一致性。散装微加工的关键参数包括晶体方向、蚀刻、蚀刻浓度、半锥度启动材料、温度和时间。IC 技术中常见的光刻技术可精确定义硅晶片两侧蚀刻的模式。晶体方向、蚀刻和半导体起始材料是设计出来的,将蚀刻剂浓度、温度和时间作为批次到批次的控制物。
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体微加工是一种制作三维微结构的工艺,其中掩模硅片被蚀刻在依赖于取向的蚀刻溶液中[3]。利用微加工技术,通过控制最少的参数,可以同时制造多个晶圆,并保持批量一致性。体微加工的关键参数包括晶体学取向、刻蚀剂、刻蚀剂浓度、半导体起始材料、温度和时间。在集成电路技术中常见的光刻技术精确地定义了硅片两侧的蚀刻图案。通过设计选择晶体取向、蚀刻剂和半导体起始材料,将蚀刻剂浓度、温度和时间作为批量控制项目。<br>
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