Using atomistic simulations Sengul

Using atomistic simulations Sengul et al[249] suggested hydroxylation during CSP in the presence of acetic acid solution, which generates surface complexes, accelerating the surface diffusion by an order of magnitude.

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在乙酸溶液中存在，其产生表面复合物，由一个数量级加速表面扩散使用原子模拟Sengul等[249]提出CSP期间羟化。

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利用原子模拟，Sengul等人[249]建议在醋酸溶液存在下CSP过程中发生羟基化，生成表面复合物，加速表面扩散一个数量级。

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