実施例１と同様のモリブデン粉末を用いて、モリブデン粉末を１００ＭＰａに

実施例１と同様のモリブデン粉末を用いて、モリブデン粉末を１００ＭＰａにて金型成形し、焼結炉に投入し、Ｈ２ガスフロー中、最高温度２１００℃にて１８０分保持の条件で焼結した。得られた焼結体を鍛造し、図２に示すようなテーパの付いた盃状に加工した後、カーボン容器中に投入して、Ｈ２ガスフロー中１４００℃にて加熱して、表面全体が厚さ２μｍ炭化した蒸発用モリブデンるつぼを得た。この炭化層をＸ線回折法にて分析したところ、ＭｏＣ相およびＭｏ２Ｃ相であった。

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使用与实施例1相同的钼粉，将钼粉在100MPa下成型，装入烧结炉中，并在H 2气流中在最高温度2100℃下烧结180分钟。做到了。如图2所示，将所得的烧结体锻造，加工成具有锥度的杯状，放入碳容器中，在H 2气流中在1400℃下加热，整个表面获得用于蒸发的钼罐，将其碳化至2μm的厚度。通过X射线衍射分析该碳化层时，发现其为Mo C相和Mo 2 C相。

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使用与示例 1 相同的氧化铝粉末，在 100MPa 下成型氧化铝粉末，放入烧结炉中，在 H 2 气流中，在最高温度 2100°C 下在保持 180 分钟的条件下烧结。锻造所得烧结体，加工成锥形，如图2所示，放入碳容器中，在H 2气流中加热至1400°C，整个表面得到厚度为2μm碳化的蒸发氧化铝熔炉。用X射线衍射法分析碳化层，为MoC相和Mo 2 C相。

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使用与实施例1相同的钼粉末，用100MPa模具成形钼粉末，投入烧结炉，以H2气体流中最高温度2100℃保持180分钟的条件烧结。锻造所得的烧结体，加工成图2所示的带锥形的杯状后，投入到碳容器中，在H2气体流中1400℃加热，得到表面全体厚度2μm碳化的蒸发用钼罐。在该层中对X射线和C相进行了分析。<br>

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