X-ray density of HfO2 was only reac

X-ray density of HfO2 was only reached by 1200℃ treatment [64]. The formation of monolithic ZrO2 ceramics with no flaws is difficult to obtain by traditional sintering due to crack formation during monoclinic-tetragonal phase transition, besides temperatures above 1600℃ are required.

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的HfO 2的X射线密度仅由1200℃治疗[64]达到。单片陶瓷的ZrO 2与毫无破绽的形成难以通过传统的烧结，以获得由于单斜四方相变过程中形成裂纹，除了温度高于1600℃需要。

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HfO2的X射线密度仅通过1200°C治疗达到[64]。除了温度超过1600°C外，由于单临床四态相过渡过程中的裂纹形成，传统烧结很难形成无瑕疵的单片ZrO2陶瓷。

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经1200℃处理，HfO2的X射线密度才达到[64]。传统烧结方法难以获得无缺陷的整体ZrO2陶瓷，这是由于ZrO2陶瓷在单斜四方相转变过程中产生裂纹，而且需要1600℃以上的温度。<br>

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