洪世豪等人采用碱和HF/HNO3分别对金刚线切割多晶硅进行预处理，随后

洪世豪等人采用碱和HF/HNO3分别对金刚线切割多晶硅进行预处理，随后再采用银铜辅助化学刻蚀，刻蚀后硅片反射率为15.7%，最终制的效率为18.91%的微纳米结构的太阳能电池

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Hong Shihao et al. used alkali and HF/HNO3 to pretreat diamond wire-cut polysilicon, and then used silver-copper-assisted chemical etching. After etching, the reflectivity of the silicon wafer was 15.7%, and the final production efficiency was 18.91% micro-nano Structured solar cell

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Hong Shihao et al. Used alkali and HF / HNO3 to pretreat the diamond wire cut polycrystalline silicon, and then used silver copper assisted chemical etching. After etching, the silicon chip reflectivity was 15.7%, and the final efficiency was 18.91%<BR>

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