通过LAMMPS模拟得到不同磨粒粒径条件下，划痕过程中砷化镓材料表面形

通过LAMMPS模拟得到不同磨粒粒径条件下，划痕过程中砷化镓材料表面形貌图如图4所示。

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Through the LAMMPS simulation, the surface morphology of gallium arsenide material during the scratching process under different abrasive particle size conditions is shown in Figure 4.

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The surface profile of the gallium arsenide material in the scratch process is shown in Figure 4 under the conditions of different grinding particle sizes obtained by LAMMPS simulation.

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The surface morphology of gallium arsenide during the scratch process is shown in Fig. 4 under different abrasive particle sizes by lammps simulation.

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