본 발명의 일 특징에 따른 산화아연계 박막은 상술한 범위의 조성

본 발명의 일 특징에 따른 산화아연계 박막은 상술한 범위의 조성을 갖는 산화아연계 스퍼터링 타겟을 이용하여DC 스퍼터링법으로 증착되며, 전자 이동도가 10 내지 100 cm2/Vㆍs를 나타낸다. 상기 증착은 아르곤 기체의 부피 대비 산소 기체의 부피가 5 내지 30 %인 분위기 하에서 이루어진다.

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根据本发明的一个方面的基于氧化锌的薄膜通过使用具有上述范围内的组成的基于氧化锌的溅射靶通过DC溅射来沉积，并且表现出10至100cm 2 / V·s的电子迁移率。在氧气的体积相对于氩气的体积为5％至30％的气氛中进行沉积。

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根据本发明的一个特征，氧化亚联薄膜使用具有上述范围成分的氧化亚联溅射靶沉积在DC溅射法中，电子运动图表示10至100 cm2/V/s。沉积在氧气气体体积为5%至30%的气氛下进行，与气体体积相比。

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根据本发明的一个特征，氧化锌系薄膜利用具有上述范围的氧化锌系推杆目标，通过DC推杆法增加，电子移动度为10至100cm2/V·s。上述增收是在氩气体体积对比氧气气体体积为5 ~ 30%的氛围下进行的。<br>

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