The TEM image in Figure 4d shows a thickness of PEI polymer at the int的简体中文翻译

The TEM image in Figure 4d shows a

The TEM image in Figure 4d shows a thickness of PEI polymer at the interface between two grains ranging between 5 and 10 nm, as desired. The HAADF-STEM and EDS image at lower magnification (Figure 4e,i) shows that PEI is homogeneously distributed at interfaces between ZnO grains. The CSCC enabled the co-sintering of metal, polymer and ceramic to fabricate functional MLV devices with a new methodology having all process steps below 200 °C, including sintering which takes place at 120 °C only. This would not have been possible with conventional methods as high temperatures required to densify the ceramic would have led to the complete decomposition of the polymer. In the best of our knowledge, this is the lowest sintering temperature that can be found in the literature to fabricate functional ZnO-based MLV devices.
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根据需要,图4d中的TEM图像显示了在5到10 nm之间的两个晶粒之间的界面处PEI聚合物的厚度。HAADF-STEM和EDS图像在较低放大倍数下(图4e,i)显示PEI在ZnO晶粒之间的界面处均匀分布。CSCC通过一种新方法将金属,聚合物和陶瓷进行共烧结,以制造功能性MLV器件,该方法的所有工艺步骤均低于200°C,包括仅在120°C下进行的烧结。用常规方法不可能做到这一点,因为致密化陶瓷所需的高温会导致聚合物完全分解。据我们所知,这是制造功能性基于ZnO的MLV器件的最低烧结温度。
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图 4d 中的 TEM 图像显示了 PEI 聚合物在两个颗粒之间 5 到 10 nm 之间的接口的厚度。需要。低放大倍率的HAADF-STEM和EDS图像(图4e,i)显示PEI在ZnO颗粒之间的接口上均匀分布。CSCC 使金属、聚合物和陶瓷的共烧结能够制造功能性 MLV 器件,采用新方法,所有工艺步骤都低于 200°C,包括仅在 120°C 下进行烧结。传统方法不可能达到这一点,因为使陶瓷密度化所需的高温将导致聚合物的完全分解。据我们所知,这是文献中制造基于ZnO的功能MLV器件的最低烧结温度。
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图4d中的TEM图像显示了两个晶粒之间的界面处PEI聚合物的厚度,范围在5到10nm之间。低倍率下的HAADF-STEM和EDS图像(图4e,i)表明PEI均匀分布在ZnO晶粒之间的界面上。在低于200°C的条件下,使用CSCV的所有功能性金属烧结方法制备陶瓷,包括仅在120°C下进行烧结的新工艺。这在传统方法中是不可能的,因为陶瓷致密化所需的高温会导致聚合物完全分解。据我们所知,这是在文献中可以找到的制造功能性ZnO基MLV器件的最低烧结温度。<br>
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