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As shown in Fig. 4 and Table 3, the C 1s high resolution spectra ofthe untreated UHMCFs showed the characteristic of graphitic structurewhich had the highest percentage of graphitic carbon (-C-C). In comparison with untreated UHMCFs, decreases in the relative content ofgraphitic carbon (-C-C) occurred and there was an obvious rise in therelative contents of C-O and C=O (peak III) groups. This was possiblydue to oxidative degradation of the graphitic structure at the surface ofthe fibers [43]. The relative content of carbonate groups (R1-OCOO-R2)also gradually decreased with the elevation of the current densities,which indicated that step-wise oxidation from –C-C to –C-O and –C=Ohappened to UHMCF surfaces and few carboxyl and carbonate groupswere generated.3.4. XRD analysisXRD patterns of UHMCFs in the form of equatorial scan are shownin Fig. 5. As can be seen, the 002 peak, 100 peak and 004 peak werefound in XRD spectrum of all the fibers. These peaks, especially the 002peak, were a reflection of the imperfect graphite structure. In the preparation of CFs, typical turbostratic carbon phase well-oriented in fiberdirection are formed, and many tetrahedral carbon-type crosslinks alsoshow up between the graphite-type carbon layers [44]. The existence ofthe 002 peak confirmed that UHMCFs still had turbostratic graphitestructure. The average interlayer spacing d002 indicative for the degreeof the turbostratic structure could be estimated from the 002 peak, andthe crystallite thickness Lc was also calculated according to Scherrer'sformula through equatorial pattern scanning [45,46]. XRD structuralparameters of UHMCFs are shown in Table 4. As an important parameter of the crystallite structure, the content of void Vp can be calculated through the following formula: Vp = 1-ρfd002/(ρgdg), where ρfmeans the density of carbon fiber, d002 represents the average interlayerspacing of carbon fiber, ρg is the density of ideal single graphite, and dgmeans the average interlayer spacing of ideal single graphite. The Vpvalues of UHMCFs with and without surface oxidation are also shown inTable 4.From a comparison of untreated and surface oxidized UHMCFs, thevalue of the average interlayer spacing d002 and the value of void Vpslightly increased, which was possibly due to chemical etching in surface oxidation and the contaminants removing from fiber surfaces. Thecrystallite thickness Lc went through an initial increase followed by adecrease in the process of electrochemical oxidation, which was consistent with surface roughness results by AFM. The results of XRDanalysis by powder method were a reflection of the integral structuralparameter rather than only surface structure. As a result, changes in thevalues of d002, Vp, and Lc were not so obvious which indicated theelectrochemical surface oxidation possibly couldn't affect the internalgraphite structure of UHMCFs.3.5. Raman spectroscopy analysisRaman spectroscopy has been demonstrated to be a useful techniqueto follow the micromechanics of deformation of CFs [47–49], and it canbe used to investigate the structure within a few tens of nanometers[50]. The Raman spectrum of CFs in the range of 1000–2000 cm−1mainly shows two characteristic bands. G-line (located at about
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如图4和表3中所示,的将C 1s高分辨率光谱<br>未处理UHMCFs表明石墨结构的特征<br>,其具有石墨碳(-CC)的比例最高。在COM?型坯与未处理UHMCFs,在相对含量降低<br>石墨碳(-CC)发生,并且有一个在一个明显上升<br>的CO和C = O(III峰)基团的相对含量。这是可能是<br>由于在表面上的石墨结构的氧化降解<br>纤维[43]。碳酸酯基团的相对含量(R1-OCOO-R2)<br>也逐渐与电流密度的升高,降低<br>,其表明从该-CC逐步氧化成-CO和-C = O<br>碰巧UHMCF表面和少数羧基和碳酸酯基团<br>产生。<br>3.4。XRD分析<br>UHMCFs在赤道扫描的形式的XRD图案示<br>于图5可以看出,在002的峰值,峰100和004峰均<br>在所有纤维的XRD光谱中发现。这些峰,尤其是002 <br>峰,是不完全石墨结构的反射。在预?CF的paration,良好取向的纤维典型乱层结构碳相位<br>方向上形成,并且许多四面体碳型交联键也<br>出现在石墨型碳层[44]之间。存在<br>002峰证实UHMCFs仍然有乱层石墨<br>结构体。为度的平均层间晶面间距d002表示<br>的乱层结构的的可从峰002来估计,和<br>微晶厚度Lc为根据谢乐公还计算<br>通过赤道图案扫描[45,46]式。XRD结构<br>UHMCFs的参数示于表4中作为一个重要的段的微晶结构的米,空隙Vp的含量可以是calcu通过以下公式迟来:?VP = 1-ρfd002/(ρgdg),其中ρF <br>装置碳纤维的密度,D002表示平均层间<br>间距的碳纤维,ρg是理想的单石墨的密度,和DG <br>装置理想的单石墨的平均层间距。副总裁<br>有和没有表面氧化UHMCFs的值也示于<br>表4 <br>来自未处理的和表面氧化UHMCFs的比较,<br>平均层间晶面间距d002的值和无效Vp的值<br>略有增加,这是可能是由于在化学蚀刻河畔?面的氧化和从纤维表面去除污染物。的<br>微晶厚度LC通过初始增加去随后是<br>在电化学氧化的过程中降低,这是CON?sistent与由AFM表面粗糙度的结果。XRD结果<br>分析通过粉末方法是整体结构的反射<br>参数,而不是仅仅将表面结构。其结果是,改变了<br>D002,Vp及Lc的值分别为不其中表明如此明显<br>的电化学表面氧化可能不能影响内部<br>UHMCFs的石墨结构。<br>3.5。拉曼光谱分析<br>拉曼光谱已经被证明是一个有用的技术<br>遵循的CF [47-49]的变形微机械,并且其可以<br>被用于几十纳米的范围内调查结构<br>[50]。CF的在1000-2000厘米-1的范围的拉曼光谱<br>主要示出了两个特征谱带。G线(位于约
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如图 4 和表 3 所示,C 1s 高分辨率光谱<br>未经处理的UHMCF显示出石墨结构的特征<br>石墨碳(-C-C)百分比最高。与未经治疗的多地相联法相比,<br>石墨碳 (-C-C) 发生,并出现了明显的上升<br>C-O 和 C+O(峰值 III)组的相对内容。这可能是<br>由于石墨结构在表面的氧化降解<br>纤维 [43]。碳酸盐群的相对含量(R1-OCOO-R2)<br>也随着当前密度的升高而逐渐减少,<br>这表明从+C-C到+C-O和+C_O的逐级氧化<br>发生在UHMCF表面和少数碳糖和碳酸盐组<br>生成。<br>3.4. XRD 分析<br>显示了赤道扫描形式的 UhMCF 的 XRD 模式<br>如图5。可以看出,002峰、100峰和004峰<br>发现在所有纤维的XRD光谱。这些峰值,尤其是 002<br>峰值,是不完全石墨结构的反映。在CF的制备中,典型的涡轮层碳相在光纤中处于良好方向<br>方向形成,许多四面体碳型交联也<br>出现在石墨型碳层 [44]之间。存在<br>002峰值证实,UHMCFs仍然具有涡轮流石墨<br>结构。平均层间距 d002 指示度<br>涡轮层结构可以从002峰值估计,并且<br>晶体厚度Lc也是根据舍勒的<br>公式通过赤道模式扫描[45,46]。XRD 结构<br>表4显示了UHMCF的参数。作为晶体结构的一个重要参数,空Vp的含量可以通过以下公式计算:Vp = 1-_fd002/(_gdg),其中_f<br>表示碳纤维的密度,d002 表示平均层间<br>碳纤维间距,μg是理想单石墨的密度,dg<br>表示理想单石墨的平均层间距。副总裁<br>带和无表面氧化的 UHMCF 值也显示在<br>表4.<br>通过对未经处理和表面氧化的多氟辛酸的对比,<br>平均层间距 d002 的值和空 Vp 的值<br>略有增加,这可能是由于表面氧化中的化学蚀刻和从纤维表面去除的污染物。的<br>晶体厚度 Lc 经历了初始增加,随后是<br>电化学氧化过程中的减少,与AFM的表面粗糙度结果一致。XRD 的结果<br>用粉末法进行分析是整体结构的反映<br>参数,而不仅仅是表面结构。因此,在<br>d002、Vp 和 Lc 的值不是那么明显,这表明<br>电化学表面氧化可能不会影响内部<br>多高压和上用的石墨结构。<br>3.5. 拉曼光谱分析<br>拉曼光谱已被证明是一种有用的技术<br>遵循CF的微观变形力学[47[49],它可以<br>用于调查几十纳米内的结构<br>[50]在1000~2000cm_1范围内的克拉曼光谱<br>主要显示两个特征带。G 线(位于大约
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如图4和表3所示<br>未经处理的超高分子量纤维具有石墨结构特征<br>其中石墨碳含量最高。与未经处理的超高分子量纤维相比,其相对含量降低<br>石墨碳(-C-C)的出现使<br>C-O和C=O(峰III)基团的相对含量。这可能是<br>由于表面石墨结构的氧化降解<br>纤维[43]。碳酸盐族的相对含量(R1-OCOO-R2)<br>随着电流密度的增加也逐渐减少,<br>表明从-C-C逐步氧化到-C-O和-C=O<br>发生在超高分子量纤维表面和少量的羧基和碳酸盐基上<br>产生了。<br>3.4条。X射线衍射分析<br>以赤道扫描的形式显示了UHMCFs的x射线衍射图<br>在图5中。可见,002峰、100峰和004峰<br>在所有纤维的X射线衍射谱中发现。这些山峰,尤其是002<br>峰,是石墨结构不完善的反映。在CFs预分离过程中,典型的涡轮层状碳相在纤维中取向良好<br>方向形成,许多四面体碳型交联<br>出现在石墨型碳层之间[44]。存在<br>002峰证实超高密度碳纤维仍然含有涡轮层状石墨<br>结构。平均层间距d002表示<br>从002峰可以估算出涡轮层结构,以及<br>晶体厚度Lc也根据Scherrer的<br>赤道模式扫描公式[45,46]。XRD结构<br>UHMCF的参数如表4所示。作为晶体结构的重要参数,空穴Vp的含量可以通过以下公式计算:Vp=1-ρfd002/(ρgdg),其中ρf<br>表示碳纤维的密度,d002表示平均夹层<br>碳纤维间距,ρg为理想单石墨密度,dg<br>指理想单石墨的平均层间距。副总裁<br>有无表面氧化的UHMCF值也显示在<br>表4。<br>通过对未处理和表面氧化超高分子量纤维的比较,发现<br>平均层间距d002和空隙率Vp值<br>略有增加,这可能是由于表面氧化过程中的化学腐蚀和纤维表面污染物的去除。这个<br>晶体厚度Lc经历了一个最初的增加,然后是<br>电化学氧化过程的降低,这与原子力显微镜的表面粗糙度结果相一致。x射线衍射结果<br>粉末法分析是整体结构的反映<br>参数而不仅仅是表面结构。因此,在<br>d002、Vp和Lc值不明显,说明<br>电化学表面氧化可能不会影响内部<br>超高分子量纤维的石墨结构。<br>3.5条。拉曼光谱分析<br>拉曼光谱已被证明是一种有用的技术<br>遵循CFs变形的微观力学[47–49],它可以<br>用于研究几十纳米范围内的结构<br>[50]。1000-2000cm-1范围内CFs的拉曼光谱<br>主要表现为两个特征带。G线(位于约
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