The reliability of MEMS sensors or actuators such as accelerometers, g的简体中文翻译

The reliability of MEMS sensors or

The reliability of MEMS sensors or actuators such as accelerometers, gyroscopes, resonators, RF switches,
microbolometers... is critically dependent on the vacuum level and on the nature of the gaseous species
present inside the MEMS cavity (1 mm3 or less, usually in the 102
–103 mbar vacuum range after sealing by Wafer Level Packaging process). Although a lot of methods have been explored, the Residual Gas
Analysis (RGA) method – however destructive-reveals to be an interesting technique to determine the
possible sources of gaseous species present in the MEMS cavity or outgassed by materials, in order to
assess to which extent a given packaging technology is capable of maintaining the required environmental conditions all along the device lifetime.
This paper introduces results recently achieved with two specifics RGA test benches developed at CEA–
LETI (i) to analyze very small amounts of gases trapped inside MEMS cavities, and (ii) to assess the outgassing or pumping behavior of bulk or getter materials. These Ultra High Vacuum (UHV) RGA equipments operate with a residual background pressure level in the 1010 mbar range and use Quadripolar
Mass Spectrometers (QMS) for gas analysis.
Experimental results confirm that the RGA technique is successfully used to identify the nature and
proportions of gases outgassed by materials or trapped in cavities as small as 1 mm3 under a residual
pressure lower than 102 mbar.
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MEMS传感器或致动器诸如加速度计,陀螺仪,谐振器,RF开关,所述的可靠性<br>微辐射...是严格依赖于真空度和在气态物质的性质<br>存在的MEMS腔内部(1→3或更小,通常为在10?2 <br>-10?3毫巴真空范围密封后?通过晶圆级封装过程荷兰国际集团)。虽然很多方法已经被探索,残余气体<br>分析(RGA)方法-但破坏性-揭示是一个有趣的技术来确定<br>存在于所述MEMS空腔或由材料脱气气态物质的可能来源,以<br>评估何种程度的给定的封装技术是能够维持所要求的环境下的?所有沿着装置寿命TAL条件。<br>本文介绍了最近在CEA-开发了两种具体RGA测试台获得的结果<br>LETI(i)至分析非常少量的俘获MEMS空腔内部的气体,和(ii)评估了呢?放气或泵送的散装或吸气材料的行为。这些超高真空(UHV)RGA装备?发言:与在10〜10毫巴范围内的残留背景压力水平操作和使用四极<br>质谱仪(QMS)气体分析。<br>实验结果证实,RGA技术被成功地用于鉴定的性质和<br>通过材料脱气或被困在一个残留下空腔小1立方毫米气体的比例<br>压力低于10?2毫巴。
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MEMS 传感器或执行器(如加速度计、陀螺仪、共振器、射频开关、<br>微博数计...严重依赖于真空水平和气态物种的性质<br>MEMS 型腔内(1 mm3 或更少,通常位于 102<br>*103 mbar 真空范围,通过晶圆级封装工艺密封后)。虽然已经探索了很多方法,但残余气体<br>分析 (RGA) 方法 – 无论破坏性,揭示是确定<br>MEMS腔中可能存在的气态物种来源,或由材料流出的气体,以便<br>评估给定包装技术在何种程度上能够保持器件整个使用寿命内所需的环境条件。<br>本文介绍了最近通过CEA*开发的两个具体RGA测试台获得的结果。<br>LETI (i) 分析 MEMS 腔内滞留的非常少量的气体,以及 (ii) 评估散装或进料材料的出气或泵送行为。这些超高真空 (UHV) RGA 设备在 1010 mbar 范围内以残余背景压力水平运行,并使用四极<br>用于气体分析的质谱仪 (QMS)。<br>实验结果证实,RGA技术成功地用于识别性质和<br>气体由材料排放或被困在残余物下小至 1 mm3 的空腔中的比例<br>压力低于 102 mbar。
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微机械传感器或执行器的可靠性,如加速度计、陀螺仪、谐振器、射频开关,<br>微测辐射热计…关键取决于真空度和气态物质的性质<br>存在于mems腔中(1 mm3或更小,通常在102<br>–103毫巴真空范围,通过晶圆级封装工艺密封)。虽然已经探索了很多方法,但是残余气体<br>分析(RGA)方法-然而破坏性揭示是确定<br>可能存在于mems腔中或被材料排出气体的气体种类来源,以便<br>评估给定的封装技术在何种程度上能够在设备使用寿命内保持所需的环境条件。<br>本文介绍了最近在CEA开发的两个特殊的RGA试验台所取得的成果-<br>leti(i)分析被困在mems腔中的极少量气体,以及(ii)评估大块材料或吸气剂材料的放气或泵送行为。这些超高真空(uhv)rga设备在1010 mbar范围内的残余背景压力水平下运行,并使用四极<br>气体分析用质谱仪。<br>实验结果证实,rga技术已成功地应用于自然界的识别和<br>在残余气体下,被材料释放或困在小于1 mm3的空腔中的气体比例<br>压力低于102毫巴。<br>
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