Background correction is important

Background correction is important when using flameless atomization, especiallybelow 350 nm. Certain samples, when atomized, may absorb or scatter light from the lamp. Thiscan be caused by the presence of gaseous molecular species, salt particles, or smoke in thesample beam. If no correction is made, sample absorbance will be greater than it should be,and the analytical result will be erroneously high. Zeeman background correction is effective inovercoming composition or structured background interferences. It is particularly useful whenanalyzing for As in the presence of Al and when analyzing for Se in the presence of Fe

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使用无焰雾化时，尤其是 在350 nm以下时，背景校正很重要。某些样品被雾化后，可能会吸收或散射来自灯的光。这 可能是由于 样品束中存在气态分子物质，盐颗粒或烟雾引起的。如果不进行校正，则样品的吸光度会大于应有的水平， 并且分析结果会错误地高。Zeeman背景校正可有效 克服构图或结构化背景干扰。 在存在铝的情况下分析As以及在存在Fe的情况下分析Se时，此功能特别有用

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使用无火焰雾化时，背景校正非常重要，尤其是 低于350nm。某些样品在雾化后，可能会吸收或散射灯中的光。这 可能是由气体分子物种，盐颗粒，或烟雾的存在造成的 样本光束。如果不进行更正，样本吸收量将大于预期， 分析结果将是错误的高。泽曼背景校正是有效的 克服构图或结构化背景干扰。它是特别有用的，当 分析作为在阿尔的存在，当分析为Se在Fe的存在

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在使用无焰雾化时，背景校正非常重要，尤其是 350牛米以下。某些样品雾化后，可能会吸收或散射灯上的光。这个 可能是由于气体分子物种、盐颗粒或烟雾存在于 样品梁。如果未进行校正，则样品吸光度将大于其应力， 分析结果将错误地高。塞曼背景校正在 克服合成或结构化背景干扰。当 铝存在时砷的分析及Fe存在下硒的分析

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