CVD process taking place at atmosph

CVD process taking place at atmospheric pressureAPCVD process has been used to deposit silicon oxide and silicon nitrideAPCVD O3-TEOS oxide process is widely used in the semiconductor industry.Conveyor belt system with in-situ belt clean

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CVD过程发生在大气压下 APCVD工艺已经用于沉积氧化硅和氮化硅 APCVD O3-TEOS氧化物处理被广泛使用在半导体工业中。 传送带系统与现场带干净

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CVD 过程在大气压力下进行 APCVD 工艺已用于沉积氧化硅和氮化硅 APCVD O3-TEOS 氧化物工艺广泛应用于半导体行业。 带带系统，原位皮带清洁

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大气压下的cvd过程 APCVD工艺已用于沉积氧化硅和氮化硅。 氧化锌工艺在半导体工业中有着广泛的应用。 带现场清洗的输送带系统

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