To present more details in terms of intergranular nanostructure of MLV的简体中文翻译

To present more details in terms of

To present more details in terms of intergranular nanostructure of MLV device and the polymer distribution at the interface between ZnO grains, TEM (transmission electron microscopy) and STEM-EDS (Scanning Transmission Electron Microscopy – Energy Dispersive Spectroscopy) were performed. Figure 4 shows TEM and STEM-EDS images of both ceramic-polymer/metal and ceramic/polymer interfaces in the cold sintered MLV device. Figure 4a represents a multilayer body and the rectangular frames show different spots of the multilayer device where is being examined by TEM. STEM-EDS images (Figure 4b,c) confirm that a clean interface of Cu/ZnO-PEI is obtained at a nanoscale and that the interdiffusion between Cu-metal and ZnO/PEI does not occur, as opposed to the device is fabricated at 220 °C (Figure S1 in the Supporting Information) where interdiffusion may occur (Figure S2b and S2c in the Supporting Information).
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为了呈现MLV器件的晶间纳米结构和ZnO晶粒之间界面处的聚合物分布的更多细节,进行了TEM(透射电子显微镜)和STEM-EDS(扫描透射电子显微镜–能量色散光谱)研究。图4显示了冷烧结MLV设备中陶瓷-聚合物/金属和陶瓷/聚合物界面的TEM和STEM-EDS图像。图4a表示多层体,矩形框显示了多层设备的不同点,在这些点上正在通过TEM进行检查。STEM-EDS图像(图4b,c)证实,在纳米级可获得干净的Cu / ZnO-PEI界面,并且不会发生Cu-金属与ZnO / PEI之间的相互扩散,
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详细介绍了MLV器件的间层纳米结构和ZnO颗粒、TEM(透射电子显微镜)和STEM-EDS(扫描传输电子显微镜+能量分散光谱)之间的聚合物分布。图 4 显示了冷烧结 MLV 器件中陶瓷聚合物/金属和陶瓷/聚合物接口的 TEM 和 STEM-EDS 图像。图 4a 表示多层主体,矩形框架显示 TEM 正在检查的多层设备的不同点。STEM-EDS 图像(图 4b,c) 确认 Cu/ZnO-PEI 的清洁接口以纳米级获得,并且 Cu-metal 和 ZnO/PEI 之间没有发生互通,与器件相反,在 220°C 下制造(支持信息中的图 S1),其中可能发生互通(支持信息中的图 S2b 和 S2c)。
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为了更详细地描述MLV器件的晶间纳米结构和聚合物在ZnO颗粒界面的分布,我们进行了TEM(透射电子显微镜)和STEM-EDS(扫描透射电子显微镜-能量色散光谱)的研究。图4显示了冷烧结MLV装置中陶瓷-聚合物/金属和陶瓷/聚合物界面的TEM和STEM-EDS图像。图4a表示一个多层体,矩形框显示了多层器件的不同点,其中正被TEM检查。STEM-EDS图像(图4b,c)证实在纳米尺度上获得了一个清洁的铜/氧化锌-聚乙烯亚胺界面,并且铜金属和氧化锌/聚乙烯亚胺之间不会发生互扩散,而器件是在220°c下制造的(支持信息中的图S1),在该温度下可能会发生互扩散(支持信息中的图S2b和S2c)。<br>
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