通过模拟得到不同压入深度条件下，划痕过程中砷化镓材料表面划痕形貌图，如

通过模拟得到不同压入深度条件下，划痕过程中砷化镓材料表面划痕形貌图，如图6所示。

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The morphology of the scratches on the surface of the gallium arsenide material during the scratching process under different indentation depths is obtained through simulation, as shown in Figure 6.

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The surface scratch profile of the gallium arsenide material during the scratch process under different pressure-in depth conditions is obtained by simulation, as shown in Figure 6.

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Through simulation, the scratch morphology of gallium arsenide surface under different indentation depth is obtained, as shown in Figure 6.<br>

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