Samples for transmission electron m

Samples for transmission electron microscopy (TEM) analysis were prepared using a FEI Helios 660 focused ion beam (FIB) system. A thick protective amorphous carbon layer was deposited over the region of interest then Ga+ ions (30 kV then stepped down to 1 kV to avoid ion beam damage to the sample surface) were used in the FIB to make the samples electron transparent for TEM images.

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使用FEI太阳神660聚焦离子束（FIB）系统制备用于透射电子显微镜（TEM）分析的样品。厚保护的无定形碳层沉积在然后GA +离子（然后在30千伏降压至1千伏到样品表面避免离子束的损伤）在FIB被用于使样品电子透明对TEM图像的感兴趣的区域。

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传输电子显微镜（TEM）分析样品是使用 FEI Helios 660 聚焦电离束（FIB）系统制备的。在FIB中，一个厚厚的保护性非晶碳层沉积在感兴趣的区域，然后Ga+离子（30 kV然后降到1千伏，以避免离子束对样品表面的损害），使样品对TEM图像具有电子透明。

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利用FEI-Helios 660聚焦离子束（FIB）系统制备了透射电子显微镜（TEM）分析样品。在感兴趣的区域上沉积一层厚的保护性非晶碳层，然后在FIB中使用Ga+离子（30kv然后降到1kv以避免离子束对样品表面的损伤）以使样品在TEM图像中电子透明。

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