基于相似的理念，在基体的表层一定深度内通过离子注入的方式改变其化学组成

基于相似的理念，在基体的表层一定深度内通过离子注入的方式改变其化学组成，使材料的表面含有丰富的硅、铝等离子。

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Based on a similar concept, the chemical composition of the substrate is changed by ion implantation within a certain depth of the surface of the substrate, so that the surface of the material is rich in silicon and aluminum plasma.

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Based on similar ideas, the chemical composition of the substation is changed by ion injection at a certain depth within a certain depth, so that the surface of the material is rich in silicon and aluminum plasma.

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Based on the similar concept, the chemical composition of the substrate is changed by ion implantation in a certain depth, so that the surface of the material contains rich silicon and aluminum plasma.<br>

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