駆除は化学試薬を使用して材料を還元し、欠陥の電気化学的還元を構築することも非常に効果的な手段です。 適切な電圧を印加することにより、材料内部的简体中文翻译

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駆除は化学試薬を使用して材料を還元し、欠陥の電気化学的還元を構築することも非常に効果的な手段です。 適切な電圧を印加することにより、材料内部で作用して欠陥を引き起こすのに十分な電子を供給することができ、欠陥の濃度と状態は、電気化学パラメータ(バイアス電圧、電流、時間など)を変更することによって調整できます。 さらに、化学試薬の還元とは異なり、電気化学的還元は通常、特定の利点を反映して従来の条件下で操作できます。 現在、さまざまな酸化物半導体材料が電気化学的手段によって構築および制御されています[3]。
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消灭也是使用化学试剂来减少材料并建立缺陷的电化学还原的一种非常有效的手段。通过施加适当的电压,可以提供足够的电子以在材料内部起作用并引起缺陷,并且缺陷的浓度和状态取决于电化学参数(偏压,电流,时间等)。可以通过更改进行调整。而且,与化学试剂的还原不同,电化学还原通常可以在常规条件下进行,这反映出某些优点。当前正在通过电化学手段来构建和控制各种氧化物半导体材料[3]。
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使用化学试剂还原材料,并构建缺陷电化学还原也是一种非常有效的方法。 通过施加适当的电压,可以在材料内部施加足够的电子来作用,从而造成缺陷,并且可以通过改变电化学参数(偏置电压、电流、时间等)来调整缺陷的浓度和状态。 此外,与化学试剂还原不同,电化学还原通常可以在传统条件下操作,以反映某些优点。 目前,各种氧化物半导体材料是通过电化学手段进行构建和控制的[3]。
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驱除使用化学试剂还原材料,构建缺陷的电化学还原也是非常有效的手段。通过施加适当的电压,可以提供足够的电子来在材料内部作用引起缺陷,可以通过改变电化学参数(偏压、电流、时间等)来调整缺陷的浓度和状态。而且,与化学试剂的还原不同,电化学的还原通常能反映特定的优点,在以往的条件下操作。现在,各种各样的氧化物半导体材料通过电化学的手段被构筑和控制[3]。<br>
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