One TM and one TSV implant was subs

One TM and one TSV implant was subsequently placed with R osteotomy sites prepared using a conventional (subtractive) drilling protocol as recommended by the implant manufacturer for lowdensity bone. CW and CCW drilling sites were subjected to osseodensification (OD) (additive) drilling.

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一个TM和一个TSV植入物随后被放置，其中R截骨站点使用常规的（减）钻协议所推荐的用于低植入物制造商制备<br>密度骨。CW和CCW钻探点进行osseodensification（OD）（添加剂）钻孔。

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一个TM和一个TSV植入物随后被放置在R骨切除术点，使用传统的（减法）钻孔方案制备，这是植入体制造商建议的低<br>密度骨。CW 和 CCW 钻井场址进行了渗透化（OD）（添加剂）钻孔。 ...

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随后放置一个TM和一个TSV植入物，并按照植入物制造商推荐的常规（减法）钻孔方案准备R截骨术部位<br>密度骨。CW和CCW钻孔点进行了骨密度（OD）钻孔。<br>

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