洪世豪等人通过RIE方法在多晶硅表面制备了反射率为13.6%的纳米绒面

洪世豪等人通过RIE方法在多晶硅表面制备了反射率为13.6%的纳米绒面，比传统酸刻蚀的反射率低了降价14%

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Hong Shihao et al. prepared a nano-textured surface with a reflectivity of 13.6% on the polysilicon surface by RIE method, which is 14% lower than the reflectivity of traditional acid etching.

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Through the RIE method, Hong Shihao and others prepared nano-velvet with a reflectivity of 13.6% on the polysilicon surface, which is 14% lower than the reflectivity of traditional acid etching.

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Hong Shihao et al. Prepared nano textured surface with 13.6% reflectivity on polysilicon surface by RIE method, which is 14% lower than that of traditional acid etching<BR>

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